DB하이텍, 국가 공공나노팹에 8인치 파운드리 장비 3대 무상 이전

삼성·SK와 체결한 '모아팹 경쟁력 강화를 위한 MOU' 후속조치 정부, 2033년까지 750억 투입…노후장비 교체·공정 역량 강화 [아이뉴스24 권서아 기자] DB하이텍이 국가 공공나노팹의 반도체 연구개발(R&D) 인프라를 강화하기 위해 8인치 미세전자기계시스템(MEMS) 공정 장비 3대를 무상 이전한다.DB하이텍은 6일 충북 음성 상우캠퍼스에서 과학기술정보통신부, 공공나노팹 통합 플랫폼 '모아팹(MoaFab)' 관계자들과 반도체 장비 이전 협약식을 열었다.왼쪽부터 이병훈 나노융합기술원 원장, 조기석 DB하이텍 대표이사, 구혁채 과학기술정보통신부 차관, 박흥수 나노종합기술원 원장이 협약 체결 후 기념촬영을 하고 있다. [사진=DB하이텍]이번 협약은 지난해 3월 과기정통부와 삼성전자·SK하이닉스·DB하이텍이 체결한 '모아팹 경쟁력 강화를 위한 업무협약(MOU)'의 후속 조치다. 기업이 사용하지 않는 장비를 공공 연구시설로 옮겨 반도체 R&D와 시제품 제작에 활용하는 첫 사례다.DB하이텍은 자사가 보유한 고온 열처리 장비 1대와 식각 장비 2대 등 MEMS 공정용 장비 3대를 나노종합기술원과 나노융합기술원에 이전한다.정부는 이를 계기로 2033년까지 총 750억원을 투입하는 '모아팹 중고장비 활용 지원사업'을 추진한다. 기업이 기증한 유휴장비의 이전·설치 비용을 지원하고 전국 공공나노팹의 노후장비를 교체해 산학연 공동 R&D와 기술 실증, 사업화 지원 역량을 높일 계획이다.나노종합기술원에는 8인치 고온 열처리 증착장비가 구축된다. 음향 마이크와 압력·적외선 센서 등 MEMS 센서의 구조막을 균일하게 형성하는 장비다. 20년 이상 사용한 기존 장비를 대체해 작업 안전성을 높이고, 한 번에 처리할 수 있는 생산량을 25개에서 50개로 두 배 확대할 수 있다.나노융합기술원에는 8인치 건식 식각·표면 코팅 장비가 들어간다. 차세대 피지컬 인공지능(AI)에 쓰이는 초미세 센서 부품을 손상 없이 분리하고 보호막을 형성한다. 기존 공정보다 초박막 부품의 품질과 완성도를 높이고 공정 단계도 줄일 수 있을 것으로 기대된다.DB하이텍 관계자는 "이번 MEMS 공정용 장비 기증을 통해 국가 나노팹 지원을 확대할 것"이라며 "반도체 제조기술과 팹 운영에 필요한 자문도 지속적으로 제공해 국내 시스템반도체 경쟁력 제고에 기여하겠다"고 말했다./권서아 기자([email protected]) 포토뉴스